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教育型研究
光罩
★ ALLIED2338
1.8
SNOWFLAKE · 六軸研究評分
複合評分覽表
評分基準日 2026-08-22
Axis 1 · 宏觀與產業
20
待解析
Axis 2 · 估值與週期
72
Axis 3 · 護城河與品質
20
Axis 4 · 成長與動能
40
Axis 5 · 風險控制
48
RESEARCH REPORT · 公開研究報告
研究報告
護城河敘事
光罩維持 7 / none，是 photomask 新 key 的代表樣本。光罩具半導體製程必要性與客戶驗證門檻，但公司目前毛利率仍略低於 20% photomask 基準，營益率也不足以支撐窄護城河；本次只把分類與 baseline 誠實對齊，不因半導體關鍵材料定位而灌分。
風險因素
- 毛利率仍略低於 photomask 基準
- 成熟製程光罩競爭與價格壓力仍在
- 營益率不足以支撐 narrow
同業比較
- Toppan Photomask
- Dai Nippon Printing (DNP)
- Photronics
- HOYA
- Compugraphics
催化劑觀察
- 先進封裝與特殊製程光罩需求
- 產品組合升級
- 毛利率回到並穩定高於 20% 基準
SNAPSHOT ARCHIVE · 分數歷史
分數歷史
依每次成功更新的日期排列；分數以 0–100 顯示。
| 日期 | A1 | A2 | A3 | A4 | A5 | 複合 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 2026-07-08 | 20 | 48 | 20 | 68 | 48 | 37 |
| 2026-07-09 | 0 | 32 | 20 | 68 | 48 | 30 |
| 2026-07-17 | 0 | 32 | 20 | 60 | 48 | 28 |
| 2026-07-18 | 0 | 32 | 20 | 60 | 48 | 28 |
| 2026-07-20 | 20 | 32 | 20 | 60 | 48 | 31 |
| 2026-07-21 | 20 | 32 | 20 | 56 | 48 | 30 |
| 2026-07-22 | 0 | 32 | 20 | 52 | 48 | 26 |
| 2026-07-23 | 0 | 32 | 20 | 44 | 48 | 24 |
| 2026-07-24 | 20 | 32 | 20 | 36 | 48 | 25 |
| 2026-07-27 | 20 | 32 | 20 | 32 | 48 | 24 |
| 2026-07-30 | 20 | 32 | 20 | 32 | 48 | 24 |
| 2026-07-31 | 20 | 32 | 20 | 32 | 48 | 24 |
| 2026-08-07 | 0 | 20 | 20 | 32 | 48 | 18 |
| 2026-08-10 | 20 | 60 | 20 | 32 | 48 | 31 |
| 2026-08-11 | 20 | 48 | 20 | 32 | 48 | 28 |
| 2026-08-12 | 20 | 48 | 20 | 44 | 48 | 31 |
| 2026-08-13 | 20 | 48 | 20 | 40 | 48 | 30 |
| 2026-08-14 | 0 | 48 | 20 | 40 | 48 | 27 |
| 2026-08-17 | 0 | 48 | 20 | 40 | 48 | 27 |
| 2026-08-18 | 20 | 88 | 20 | 40 | 48 | 40 |
| 2026-08-19 | 20 | 48 | 20 | 40 | 48 | 30 |
| 2026-08-20 | 20 | 48 | 20 | 40 | 48 | 30 |
| 2026-08-21 | 20 | 72 | 20 | 40 | 48 | 36 |
| 2026-08-22 | 20 | 72 | 20 | 40 | 48 | 36 |
★ Supply Chain Axis 6 · 供應鏈戰略定位
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